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- 集成電路及微電子制造
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氧化擴散爐OXF200
產(chǎn)品型號:OXF200
氧化擴散爐
- 詳細內(nèi)容
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1、尺寸:8英寸圓片,向下兼容6、4、2英寸
2、產(chǎn)量:1~ 60 片/批
3、工藝類型:可滿足干氧氧化、濕氧氧化、氫氧合成氧化、擴散等
4、溫度控制范圍:700℃~1250℃
5、溫控區(qū)長度:600 mm~800mm
6、溫控精度:≤±0.5℃(700℃~1250℃)
7、單點溫度穩(wěn)定性:≤±0.5℃/24h(1100℃);
8、爐體升降溫速率:最大升溫速率15℃/分鐘;
9、氣體管路:流量計控制工藝氣體流量,保護氣體由浮子流量計控制;
10、推舟方式:全自動送舟機構(gòu);
11、舟數(shù)量:3個;
12、保護功能:具有超溫、斷偶、熱偶短路、氣體流量偏差報警和保護功能;
13、工藝控制:工藝過程由工控計算機全自動控制,存儲不少于 100條工藝曲線;
14、電源:380VAC/50Hz,120KW;
15、重量:3500Kg;
16、機器外形尺寸:W5000mm×H2300mm×D1300mm。
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